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シリコンスタジオが「CEDEC 2019」に協賛。開発中のMizuchi新ツールについて発表
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印刷2019/08/23 12:26

リリース

シリコンスタジオが「CEDEC 2019」に協賛。開発中のMizuchi新ツールについて発表

「CEDEC 2019」公募セッションにて映像光学のスペシャリスト”川瀬正樹”が登壇
配信元 シリコンスタジオ 配信日 2019/08/23

<以下,メーカー発表文の内容をそのまま掲載しています>

「CEDEC 2019」公募セッションにて
映像光学のスペシャリスト”川瀬正樹”が登壇
スポンサーセッションでは開発中の
Mizuchi新ツールについて発表
展示ブースではオリジナルTシャツを合計150名様にプレゼント!

エンターテインメント業界を中心に、自動車、映像、建築など、さまざまな業界向けにデジタルコンテンツ関連ビジネスを展開するシリコンスタジオ株式会社(本社:東京都渋谷区、代表取締役社長:梶谷 眞一郎、東証マザーズ:証券コード3907、以下「当社」)は、2019年9月4日(水)から6日(金)までの3日間、パシフィコ横浜会議センターで開催される「CEDEC 2019」に協賛し、公募セッションにて川瀬正樹登壇の「物理ベース?アート指向?〜尤もらしさと自由度を両立するレンズフレア表現〜」、スポンサーセッションにて「シリコンスタジオで開発中の Mizuchi for DCC Tool について」と題した講演を実施することをお知らせします。

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CEDECは、ゲームを中心とするコンピューターエンターテインメントコンテンツの開発に携わる方を対象としたカンファレンスイベントです。1999年に東京ゲームショウとの併催で開発者向けの勉強会としてスタートし、2019年で21回目を迎えます。当社は、スポンサーセッションおよび展示ブースにてミドルウェア製品をご紹介します。また、公募セッションでは映像光学のスペシャリスト、川瀬正樹の登壇が決定いたしました。

展示ブースでは、高度な光学的表現を可能にするポストエフェクトミドルウェア『YEBIS 3(エビス 3)』に加え、世界最高峰のリアルタイムビジュアルを実現するレンダリングエンジン『Mizuchi』の新Toolを展示すべく準備を進めております。

【セッションについて】
◆公募セッション 9月4日(水)14:50〜15:50
「物理ベース?アート指向?〜尤もらしさと自由度を両立するレンズフレア表現〜」と題し、研究開発室長で映像光学のスペシャリストである川瀬が実用的なレンズフレア表現についてお話しいたします。
http://cedec.cesa.or.jp/2019/session/detail/s5c8f593404a6b

◆スポンサーセッション 9月6日(金)14:50〜15:50
「シリコンスタジオで開発中の Mizuchi for DCC Tool について」と題し、新たに開発しているツール群についてご紹介いたします。http://cedec.cesa.or.jp/2019/session/detail/s5ce3a5ed72ce5

なお、会期中は当社展示ブースにて、各日程とも先着50名様限定(3日間合計150枚)で、『Enlighten』のロゴ入りオリジナルTシャツをプレゼント※いたします。当社SNSアカウント(Twitter、またはFacebook)のフォローをお願いしております。フォロー状況がわかるスマートフォンの画面などをスタッフに提示してください。皆様のご来場お待ちしております。
※お一人様一点限りにて、サイズは選べません。各日程ともに先着順となり限定数に達し次第終了です。

【Twitter】
https://twitter.com/SiliconStudioJP
【Facebook】
https://www.facebook.com/siliconstudiojp/

Enlightenロゴ入りオリジナルTシャツ(掲載のデザイン画像はイメージです。実際のものとは異なる場合がございます。ご了承ください。)
画像集 No.004のサムネイル画像 / シリコンスタジオが「CEDEC 2019」に協賛。開発中のMizuchi新ツールについて発表

■開催概要
名称:コンピュータエンターテインメントデベロッパーズカンファレンス2019(CEDEC 2019)
会期:2019年9月4日(水)〜9月6日(金)
会場:パシフィコ横浜 会議センター(横浜西区みなとみらい)
主催:一般社団法人コンピュータエンターテインメント協会(CESA)
公式サイト:http://cedec.cesa.or.jp/2019/


※YEBIS、MizuchiおよびEnlightenは、シリコンスタジオ株式会社の登録商標です。
※その他、記載されている名称は各社の商標または登録商標です。

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